有内部前员工爆料，上微上来一个新的总经理，直接抢夺管理层公司股份，老的骨干基本走光。 新来的研发人员工资极低，像韭菜一茬接一茬，在那边混2年经验就走。 中国vs外国，是中文互联网社区内一个烂大街的老哏，指的是不少人但凡涉及到中外对比，总要集全世界其他国家的一切精华，拿来和中国进行对标。 思特威重磅推出首颗线阵CMOS图像传感器，赋能工业线阵相机应用思特威重磅推出首颗LA（Linear）线阵系列4K分辨率高速工业CMOS图像传感器——SC430LA。 宝马AI“超级大脑”上线，驱动在华数字化发展近日，宝马率先在华部署了代号为“灯塔”（BEACON）的人工智能（AI）平台，提供AI应用创新相关的开发、部署、集成与运行服务的平台化环境，加速实现多业务场景数字化。
之前，2009年上海微电子的90纳米光刻机研制成功，后来中国开始攻关65nm光刻机，2015年美国允许65nm以上设备销售给中国。 上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。 公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。 有报道称，国产90nm光刻机已商用，DUV浸润式光刻机的主要技术也都攻克了，光源、镜头、双工件台都有了。 上海微电子正在攻关的28nm的DUV光刻也有望即将交付，同时上海微电子还在进行14nm光刻机的研制与调试。 而最先进的EUV光刻机(7nm以下)还没有开始整机立项研发，实现仍需要一段时间，但相关研究已经开展。
上海微電子 duv: 业界 | 中国芯片研发新突破：全球首台超分辨光刻装备研制成功
與 10 奈米以下先進製程的 EUV 曝光設備不同，DUV 曝光設備為成熟製程使用，主要生產汽車電源管理晶片 和微控制器 等不需先進製程的產品。 然而半導體製造商開發出更先進技術，晶圓製造商也可使用 DUV 曝光設備生產 10 奈米相關節點製程。 台積電和南韓三星也使用 DUV 曝光設備生產 10 奈米相關節點製程。
- 中國對於網路科技業的掌控不遺餘力，外媒報導，中國藉由有國資色彩的企業購入阿里巴巴集團旗下2間企業的「1%黃金股」，以此獲…
- 对于正处于国家上升期的我们来说，只要做好每个人分内的事情，时间就注定是我们最大盟友。
- 之前有各种说法,基本上都是讲上海微电子的DUV光刻机快要出来了,能够支持到28nm工艺,但后来基本被证实不太靠谱,因为没有按照之前的时间发布。
- 而光也有很多种，按光的波长来划分有可见光、红外光、激光、紫外光、X光等。
- 之前，2009年上海微电子的90纳米光刻机研制成功，后来中国开始攻关65nm光刻机，2015年美国允许65nm以上设备销售给中国。
- 28nm光刻机是深紫光刻机，也就是DUV光刻机，不仅能实现28nm、14nm工艺芯片的量产，同时还可以通过多次曝光的方式，实现非EUV 7nm工艺芯片的生产，这也意味着，从今年年底或明年年初，我国将进入中高端芯片量产时代。
- ASMI预计，新规将影响其在中国大陆40%以上的销售额，因此该集团决定减少第三季度的订单和相关积压订单。
上海微電子是大陸光刻機製造的技術領先廠商，其目前光刻機產品主要包括SSX600和SSX500兩個系列。 其中， 上海微電子 duv SSX600系列用於IC上游製造，最先進可以用於90nm晶片的製造，而SSX500系列則用於IC下游製造，即先進封裝。 基于内外双循环，当务之急是实现美国主导的非光刻设备（刻蚀机、PVD、CVD、ALD、清洗机、外延、测试、氧化、离子注入等）的突破。 截止2020年末，ASML的EUV中有90%零部件来自进口，而且根据ASML加入EUVLLC的承诺，美国零部件需占比55%以上。
上海微電子 duv: 上海微电子的国产28nm光刻机还没出来，ASML2021年年报闪亮登场
光刻机大致分为两类：可以制备130nm到28nm/14nm/7nm芯片的DUV（深紫外线光刻机），以及可以制备7nm到5nm/4nm/3nm以下芯片的EUV（极紫外线光刻机）。 目前，我国能进口用来生产14纳米及以上成熟制程芯片的深紫光刻机(DUV），被卡脖子的是高端极紫光刻机（EUV），而上海取得进展的90纳米光刻机属于低端的深紫光刻机。 虽然今年7月，富士康与青岛国资合资设立的半导体封测项目，确实引进了上海微电子的光刻机，但实际上只是应用于IC后道制造的“封装光刻机”，并不是大家通常认知当中的应用于IC前道制造的“光刻机”。 浸液系统技术长期以来一直被荷兰和日本垄断，光刻机主要以荷兰ASML，日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。 该项目研发成功后将推动国产光刻机一举超越Nikon和Canon的光刻机，成为全球光刻机生产企业第二名。 此前的资料显示，该光刻机的光源激光系统、浸没式双工作台、浸液系统、透镜及曝光系统都已实现了国产化（由不国内相关供应商提供），上海微电子则负责控制系统和总装。
西工大打破吉尼斯世界纪录，扑翼式无人机单次充电飞行15据西北工业大学官宣其扑翼式无人机单次充电飞行时间获得新的吉尼斯世界纪录，认定的纪录时间为 2 小时 34 分 38 秒 上海微電子 duv 62（突破 154 分钟）。 本次刷新世界纪录的“云鸮”扑翼式无人机采用了高升力大推力柔性扑动翼设计、高效仿生驱动系统设计和微型飞控导航一体化集成等关键技术，翼展 1.82m，空载起飞重量为 1kg，手抛起飞，滑翔降落，能够按设定航线自主飞行，飞行过程中能实时变更航线。 因为不同光源的光刻机都有自己的分辨率极限，而且光刻机对芯片的制造非常重要。
上海微電子 duv: 強化掌控 中國大陸政府取得阿里巴巴2子公司特殊股
日本首相岸田文雄访美时，双方就将“保护”和维护它们在半导体等关键和新兴技术的地位写入美日联合声明。 荷兰首相访问美国时，当时并未完全答应美国的要求，于是美国一直在向荷兰施压。 从这个角度来看，美国的做法就是试图用国际竞争思维去主导国家间正常的产业合作以及科技竞争。 美媒曝日荷将对华进行半导体限制：限制部分DUV光刻机对华出口。
其中ASML销售258台占比62%，佳能销售122台占比30%，尼康销售33台占比8%。 按照销售额来计算的话ASML的份额高达91%，佳能只有3%、尼康也仅有6%。 但就在昨天，光刻机大佬ASML公布了其2021年主要业绩。 2021全年，ASML实现净销售额186亿欧元，毛利率达到52.7%，净利润达59亿欧元。 詹凯表示，BIS之前已将73个中国实体列入“未经核实清单”。 若BIS能够对被列入清单的外国实体完成核查，从而核实该等外国实体的“善意”，BIS将做出决定并将该等外国实体从清单中移除。
上海微電子 duv: 上海微电子到底能不能做出28纳米能力的DUV？
作为先进制程门槛的14nm，由于良品率的问题尚未得到根本性突破，所以截止2020年末，月产能一直徘徊在2000～3000片之间。 而“02专项”的根本目的，就是立足于28nm这个不上不下的节点，实现28nm以及以下制程的完全自主化。 例如近年来接连告捷的中国大火箭、载人航天以及地外天体探测项目，汇总起来便是其中的载人航天与探月工程专项；国产大客机的C919项目乃至于预研中的C929项目，合并便是国产大型飞机专项。 现在有不小的可能，这项关系到极端情况下芯片能否完全国产化的重大项目，将会延期至2022年——甚至更晚一些的时候。
- EUV的光源波长为13.5nm，但最先进DUV的光源波只有193nm，较长的波长使DUV无法实现更高的分辨率，因此DUV只能用于制造7nm及以上制程的芯片。
- 中芯國際 2021 年初開始與 ASML 談判擴大 DUV 設備採購規模，但美國政府半導體設備監管持續擴大，擾亂中芯國際 DUV 設備採購計畫。
- 美國商務部工業與安全侷（BIS）於當地時間2月7日發佈聲明，宣佈將33個總部在中國的實體列入所謂「未經核實名單」（Unverified List，簡稱UVL）。
- 早在華為5G誕生初期，老美就準備大幹一場瞭，以華為5G存在“網絡安全問題”為由，限制瞭其全球性發展的腳步，雖然達成瞭一定的目的，但卻進一步促成瞭華…
- ”此外，ASML称正在继续评估和关注美国新颁布的出口管制条例，初步评估认为，新的限制并未修订ASML从荷兰运出光刻设备的规则，我们预计其对ASML 2023年整体出货计划的直接影响有限。
- 作用在物镜表面的应力如果过大将使物镜产生变形和位移，并引起双折射与光路失真，如缺乏有效控制，将造成曝光成像的缺陷。
上海微电子本身起步就晚，而且不论是在人员数量、营收规模，还是研发投入上，与ASML都有着巨大的差距。 要想缩短与ASML的差距，这并不仅仅只是提升自身的系统集成能力就能够实现的，还需要配套的上万个零部件的制作水平跟上，这也就需要成百上千家的零部件供应商的共同努力。 但是，造光刻机并不是一件简单的事情，系统集成只是一方面，更为关键的是，其中需要用到非常多的关键器件，而这并不是一家或几家厂商就能搞定的。 而在今年的6月，网上又再度传出上海微电子的“28nm光刻机”将在2021年年底交付的传闻。 可惜，截至到目前为止，仍未有确凿的消息显示，上海微电子的“28nm光刻机”能够在年底交付。
上海微電子 duv: 中国学者首次实现全集成微波非厄米物理系统，有望应用于超高灵敏度传感、高效率无线能量传输
【新唐人北京時間2022年09月12日訊】中國半導體龍頭中芯國際不久前宣布其先進製程「有重大突破」，引起業界關注。 然而，日前有知名半導體研究顧問向媒體透露，有中芯國際的工程師自曝，中國目前並未能製造出功能良好的DUV曝光機，其用DUV製造的 7奈米芯片成本高且良率非常低，很容易被投訴。 三、东方明珠（600637）：东方明珠–上海市信息投资股份有限公司（21.33%）–上海泰力产业投资管理有限公司（95%）–上海微电子装备（集团）股份有限公司（8.12%）。 但需要指出的是，該公司這次交付的是用於IC下游製造的「先進封裝光刻機」，並非外界熱議被卡脖子的IC上游製造的「光刻機」。
5.启尔机电：2019年12月，启尔机电浸液系统产品研制与能力建设通过02专项CDR里程碑评审，成为继ASML、尼康后全球第三家掌握这一技术的公司。 现在中科院、上海光机所和长春国科精密一起合作研发，进度未知。 据中国方正证券的一份研究报告披露，“在02专项光刻机项目二期中，设定的时间为2020年12月验收193纳米ArF浸入式DUV光刻机，其制程工艺为28纳米”，即网络上流传的28纳米光刻机（这个说法当然不准确）。
上海微電子 duv: 上海一外卖骑手摔断腿，账号隔天被公司注销，还要被逼签“和解协议”
本文简单介绍了相位噪声的定义，详细介绍了附加相位噪声的测试过程，给出了实际的测试结果，指出了附加相位噪声测试过程中的一些注意事项，希望对附加相位噪声测试人员有一定的借鉴意义。 在这场以年为单位的追赶中，我们不必以一时得失论成败，更不必因暂时的成败论英雄。 对于正处于国家上升期的我们来说，只要做好每个人分内的事情，时间就注定是我们最大盟友。 该芯片以128核于600亿晶体管规模，成为了迄今为止集成晶体管数量最多的量产芯片。 ，所谓的“拿来主义”，就是暂时将“自主”的要求放宽，不再以百分百排除非美国技术设为先决条件，而讲究在可以利用外国技术的时期，尽量基于可获得技术去取得进展。 那么，请注意01和02这两个专项，都提到的关键词——自主。
不过对于“上海微电子到底能不能做出28nm能力的DUV光刻机”这个问题，外界看法不一。 此前知乎上就有人提了这个问题，有不少网友给出了不同意见。 搜索该网站关于SMEE的历史信息，可以看到，早在去年10月，verdict就曾报道称，“中国首台国产28nm光刻机预计2021年底前交付”。
上海微電子 duv: 中國26層高樓拿來養豬 紐時：堪比iPhone產線
不过ASML 目前依然无法将 上海微電子 duv EUV 光刻机运送给其中国客户，现在也无法将它们运送到中国，因为他们使用的是在美国设计和生产的 Cymer 光源。 有消息显示，2019年底，华卓精科的浸没式光刻机双工件机台已经刚通过了02专项的CDR里程碑评审，研发和试产基地也完成了建设。 正如前面所提到的，光刻机涉及到非常多的零部件，其中上海微电子主要是负责系统集成工作，更多的核心零部件则都是由其他的国产供应商来供应。
如今，上海微电子装备研制生产的光刻机，是中国本土市场制程最先进的一款机器，该光刻机能够量产的最高水平为90nm。 芯片产业的利好消息蜂拥而至，近两年来，北京、浙江、河南、广东、上海、深圳等地，均已出台促进集成电路发展的实施意见及规划。 数据显示，上海微电子在2018年的光刻机出货量大概在50台到60台之间，另外，该公司在中国大陆所占据的市场份额也已经超过80%。 上海微电子是在国家科技部和上海市政府共同推动下，由国内多家企业集团和投资公司共同投资组建的高科技企业。
上海微電子 duv: 中国的芯片能力强在哪、制造是不能逾越的鸿沟吗
ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink表示：“虽然每个细分市场的需求动态存在分化，但我们整体的客户需求依然强劲。 在物镜系统研发方面，主要由中科院长春光机所（现北京国望光学）负责。 投影物镜是精密光学部件，直接决定着曝光的成像质量，必须保证投影物镜在工作状态中的高度稳定。 此前NA 0.75光刻机曝光光学系统已经通过02专项验收，满足90nm级ArF干式光刻机的需要。
上海微電子 duv: 科技要闻
另外值得注意的是，自去年华为被美国实施第二轮制裁，使得华为自研芯片无法制造之后，业内就一直有传闻称华为在自建半导体产线，并已开始研发半导体产线所必须的关键设备——光刻机。 而本次极有可能被“打回票”的上海微电子 SSA800／10 Arf光刻机，单次曝光分辨率达到了38～41nm，基本满足了“02专项”所要求的28nm工艺范围。 可以说，这就是一台设计用来帮助中国自主芯片“突围”的设备。
上海微電子 duv: 汽车
而ASML先进的EUV光刻机则拥有超过10万个零件，涉及到上游5000多家供应商。 这些零部件极为复杂，对误差和稳定性的要求极高，并且这些零件几乎都是定制的，90%零件都采用的是世界上最先进技术，85%的零部件是和供应链共同研发，甚至一些接口都要工程师用高精度机械进行打磨，尺寸调整次数更可能高达百万次以上。 虽然与台积电和三星目前所采用的3nm相比较相对落后，但28nm制程技术仍被广泛使用。
国产DUV光刻机完成认证据报道，国产光刻机巨头上海微电所研发的首台国产28nm光刻机已经完成了认证，并且今年年底将实现量产。 28nm光刻机是深紫光刻机，也就是DUV光刻机，不仅能实现28nm、14nm工艺芯片的量产，同时还可以通过多次曝光的方式，实现非EUV 7nm工艺芯片的生产，这也意味着，从今年年底或明年年初，我国将进入中高端芯片量产时代。 上海微電子 duv 在芯片市场，14nm芯片是一个成熟工艺和先进工艺的分界点，现阶段，28nm、55nm工艺芯片在市场需求中所占的比例非常高，而随着消费者的要求越来越高，14nm工艺芯片的市场需求正在快速增长。
目前尼康和ASML的DUV光刻机可以实现的晶体管特征线宽不低于10nm。 但是想要实现晶体管特征线宽达到7nm那么就只有ASML的EUV光刻机了。 从以下公式可以看到，光刻分辨率（R）主要由三个因数决定，分别是光的波长（λ）、镜头半孔径角的正弦值（sinθ）、折射率（n）以及系数k1有关。 有研究机构的统计资料显示，2020年全球光刻机总销售量为413台。
上海微電子 duv: 全球缺芯下的中国半导体能否发力走向一线咖位
而且在此前国内很多媒体的报道当中都有明确指出，富士康在青岛的半导体封测项目引入的是上海微电子的“封装光刻机”。 大陆最大的代工厂是中芯国际，还有上海华力微电子也还不错，但技术和规模都远不及中国台湾。 不过受制于中国台湾诡谲的社会现状，台积电开始布局大陆，落户南京。 上海微電子 duv 大陆的中芯国际具备28nm工艺，14nm的生产线也在路上，可惜还没盈利。 大家还是愿意把这活交给台积电，台积电几乎拿下了全球70%的28nm以下代工业务。 有意思的是，2009年上海微电子的90纳米光刻机研制成功(核心部件进口)，2010年美帝允许90nm以上设备销售给中国。
上海微電子 duv: 汽车要闻
先进封装和先进制成其实大的方向是一致的，都是提高集成度。 只是一个相对是宏观的(先进封装) ，一个是相对微观的(先进制成)。 其次，如果按照tsmc的标准，用nxt 1980 or nxt 2000型号搞的7nm制程，那SMEE也是不可能达到的。 特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。 在美中對抗持續下，兩岸企業家峰會不僅持續努力維護兩岸產業供應鏈穩定，峰會台灣方面理事長劉兆玄透露，峰會目前已初步選定節能… 中國對於網路科技業的掌控不遺餘力，外媒報導，中國藉由有國資色彩的企業購入阿里巴巴集團旗下2間企業的「1%黃金股」，以此獲…
上海微電子 duv: 半导体材料行业研究报告
現階段因確認 DUV 設備排除於美國政府禁令外，中芯國際決定增加進口 DUV 曝光設備。 ASML 有 30% 營收來自中國，大部分就是販售 DUV 設備給中芯國際。 中國本土最大晶圓代工廠中芯國際近日決定，將荷蘭半導體設備廠艾司摩爾 合約延長至 2022 年，並增加 DUV 設備進口。 《中國經濟日報》報導，中芯國際增加採購 ASML 的 DUV 設備，以提高利用 DUV 曝光設備生產半導體的技術競爭力。 外媒報導，中國半導體企業專注採用深紫外 曝光技術的半導體生產技術發展，原因是中國半導體企業受制國際協定，仍無法購買生產更先進半導體製程的極紫外 曝光設備。 、药明生物一度暴跌约30%，药明生物已暂停交易，药明康德午后跌幅收窄，A股药明康德跌停。