公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。 今年9月，上海微电子宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。 据该公司介绍，此次推出的新品光刻机主要应用于高密度异构集成领域，具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光视场等特点，可帮助晶圆级先进封装企业实现多芯片高密度互连封装技术的应用。 据上海微电子官网介绍，其主要生产 SSX600 和 SSX500 两个系列的光刻机。 显然，对于上海微电子来说，其28nm光刻机的顺利推出，将打破国外厂商的对于IC前端光刻机市场的垄断，可覆盖更为广阔的市场需求，特别是在国产替代趋势之下，将有望大幅提升其光刻机的出货量、营收和利润率。 同时，也将帮助国内的晶圆代工厂降低对于国外半导体设备的依赖，进一步提升半导体制造关键设备的国产化率，提升中国半导体产业链的整体实力。
而就在昨天，上海微电子刚刚举行首台2.5D/3D先进封装光刻机发运仪式，这意味着中国首台2.5D/3D先进封装光刻机正式交付客户，引发中国社交媒体一片热议。 未来随着国产芯片产业不断发展，我们的国产光刻机、国产芯片一定能够实现从低端到高端的发展，这也是中国过往众多企业、产品的发展路线，从低端到高端的蜕变。 光刻机，是现代制造业的明珠，涉及到各门类尖端工程技术，是一项系统性工程。 对中国来说，先搞定28nm光刻机这道坎，才是紧迫的任务。 有了全国产化的28nm光刻机，就可以满足中国整个半导体产业大部分需求，中国半导体产业的安全就能大大提升。
上海微電子28nm光刻機: 国产遇良机！又一A股公司打入ASML光刻机供应链
上海微電子裝備有限公司已量產的光刻機中性能最好的最高可實現 90nm 製程節點，ASML 的 EUV 3400B 製程節點可達到 5nm。 這也使得在IC前道光刻機市場，國產化率較低，中國的IC前道光刻機市場主要被ASML、Nikon 上海微電子28nm光刻機 和Canon 瓜分。 并且表示,这台设备能够用于制造48nm-28nm芯,另外还表示到2023年,上海微电子的光刻技术,将用于制造20nm的5G芯片。
- 12月6日消息，近日有中国台湾地区的报道称，11月26日在青岛正式投产的富士康集团首座晶圆级封测厂，引进多达46台上海微电子生产的28nm光刻机，并同时称这意味着大陆生产的光刻机实现从90nm到28nm的跨越。
- 此外，哈尔滨工业大学已经研制出12瓦DPP-EUV光源，长春光机基于哈工大的光源继续研究EUV曝光机，但距离EUV的250瓦光源仍有很长的路要走。
- 自 1986 年尼康在 FPD 制造领域推出 NSR-L7501G 以来，尼康开发并销售了大量的 FPD 光刻系统，尼康不仅是大型 FPDs 光刻系统的领导者，而且还为智能手机和面板电脑生产中小型高清 FPDs提供理想的型号。
- 只要其中一个核心部件没有搞定，那么“28nm光刻机”就难以成功。
- 可以说，中国的中高端光刻机市场一直都是被这三家国外厂商所垄断。
- 而在目前的光刻機市場，ASML、Canon 以及Nikon 是最大的三家供應商，佔據了全球99%的市場。
有意思的是，2009年上海微电子的90纳米光刻机研制成功(核心部件进口)，2010年美帝允许90nm以上设备销售给中国。 2003年上海交通大学微电子学院院长陈进教授从美国买回芯片，磨掉原有标记，作为自主研发成果，骗取无数资金和荣誉，消耗大量社会资源，影响之恶劣可谓空前！ 显然，富士康在青岛的半导体封测项目引入的“光刻机”，并不是什么“28nm光刻机”，因为目前上海微电子量产的最先进的仍是只能用于90nm左右的芯片的制造。 而且在此前国内很多媒体的报道当中都有明确指出，富士康在青岛的半导体封测项目引入的是上海微电子的“封装光刻机”。 总的来说，就已有的信息来看，国产“28nm光刻机”几大关键的部件的似乎并未完全搞定，也没有全部通过02专项的验收，所以作为主要负责“28nm光刻机”系统总成的上海微电子自然也难以在今年年底实现“28nm光刻机”项目验收和交付。
上海微電子28nm光刻機: 突破 富士康引進上海微電子28nm光刻機
而在本月1日，有行业分析师也发微博称，中芯国际之前一直有申请一类关键设备（用于14nm），但一次没有通过，但这次已经获得通过。 这便意味着，中芯国际能从美国购买相应的关键设备，用于14nm以及成熟芯片的制造了。 这里需要指出的是，北京科益虹源光电是中国唯一、世界第三家具备高端准分子激光技术研究和产品化的公司，同时也正是上海微电子的光刻机的光源系统的供应商。
其中 IC 前道光刻機需求量和價值量都最高，但是技術難度最大。 而封裝光刻機對於光刻的精度要求低於前道光刻要求，面板光刻機主要用在薄膜電晶體製造中，與 IC 前道光刻機相比技術難度更低。 而在目前的光刻機市場，ASML、Canon 以及Nikon 是最大的三家供應商，佔據了全球99%的市場。
上海微電子28nm光刻機: 拜登：習近平有大麻煩 中國抗美受貿易掣肘
2月2日，湖南凯美特气体股份有限公司 (以下简称“凯美特气”)发布公告称，公司控股子公司岳阳凯美特电子特种稀有气体有限公司(以下简称“岳阳凯美特”)光刻气产品获得ASML子公司Cymer公司合格供应商认证。 从长江存储、华力微、华虹无锡、中芯绍兴以及株洲中车的光刻机采购情况来看，各产线 19Q4 至今光刻机合计采购量可观，预示其 2020 年内资产线资本支出将进一步提升。 目前最先进的 EUV 设备在2018 年单台平均售价高达 1.04 亿欧元，较 2017 年单台平均售价增长4%。 另一方面，晶圆尺寸变大和制程缩小将使产线所需的设备数量加大，性能要求变高。 （1）无掩模光刻机可分为电子束直写光刻机、离子束直写光刻机、激光直写光刻机。
同時，也將幫助中國的晶圓代工廠降低對於國外半導體設備的依賴，進一步提升半導體製造關鍵設備的國產化率，提升中國半導體產業鏈的整體實力。 ASML、Canon 以及Nikon 是全球光刻機市場的主要供應商，其中 ASML 在高端市場一家獨大並且壟斷 EUV 光刻機。 從光刻機總體出貨量來看（含非 IC 前道光刻機），目前全球光刻機出貨量 99%集中在 ASML、Nikon 和Canon 。 其中ASML份額最高，達到67.3%，且壟斷了高端 EUV 光刻機市場。
上海微電子28nm光刻機: 半导体材料行业研究报告
不过受制于中国台湾诡谲的社会现状，台积电开始布局大陆，落户南京。 大陆的中芯国际具备28nm工艺，14nm的生产线也在路上，可惜还没盈利。 大家还是愿意把这活交给台积电，台积电几乎拿下了全球70%的28nm以下代工业务。
相比于硅材料，二维原子晶体的单原子层厚度使其在小尺寸器件中具有优越的短沟道控制能力。 ；另外，光学系统数值孔径需要变大，由原来90nm光刻机的NA 0.75提升到NA 1.35，这其中需要加入具有特别构造的镜片；运动平台速度也要更快。 另外，在半导体光刻过程中，除了光刻分辨率之外，焦深（DOF）也至关重要，大的焦深可以增大刻蚀的清晰范围，提高光刻的质量。 搜索该网站关于SMEE的历史信息，可以看到，早在去年10月，verdict就曾报道称，“中国首台国产28nm光刻机预计2021年底前交付”，但是verdict并未说明具体的信息来源。
上海微電子28nm光刻機: 全球首個由ChatGPT給出的法院判決誕生，法官也要失業了嗎？
在美国的限制下，ASML一直无法向中国企业供货EUV光刻机，这就导致了国内的芯片行业发展一直受到限制，无法顺利进行，国内多个公司无法获得充足的芯片导致业务受阻，尤其是华为公司，因为无法获取5G芯片，目前华为已经被迫分拆了旗下多个业务。 其中，SSX600 系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 上海微電子28nm光刻機 关键层和非关键层的光刻工艺需求。 目前上海微电子光刻机产品包括 IC 前道制造 SSX600 系列光刻机；IC 后道先进封装 SSB500 系列光刻机； LED、MEMS、Power Devices 制造 SSB300 系列光刻机； TFT 曝光 SSB200 系列光刻机。
正如前面所提到的，光刻机涉及到非常多的零部件，其中上海微电子主要是负责系统集成工作，更多的核心零部件则都是由其他的国产供应商来供应。 只要其中一个核心部件没有搞定，那么“28nm光刻机”就难以成功。 但是，由于《瓦森纳协定》的限制，上海微电子很难从国外进口用于生产高端光刻机的部件，因此在核心器件上只能依靠国产供应商。 上海微電子28nm光刻機 但是，造光刻机并不是一件简单的事情，系统集成只是一方面，更为关键的是，其中需要用到非常多的关键器件，而这并不是一家或几家厂商就能搞定的。 另据芯智讯了解，中芯国际此前也曾采购过一台上海微电子的SSX600系列光刻机，不过不知是何原因，该光刻机没有被应用到产线上。 而在今年的6月，网上又再度传出上海微电子的“28nm光刻机”将在2021年年底交付的传闻。
上海微電子28nm光刻機: 国产光刻机研发进度
IC 前道光刻机技术最为复杂，光刻工艺是 IC 制造的核心环节也是占用时间比最大的步骤，光刻机是目前晶圆制造产线中成本最高的半导体设备。 根据格罗方德的数据显示，光刻设备约占晶圆生产线设备成本 27%，光刻工艺占芯片制造时间 40%-50%。 SSB500系列步进投影光刻机主要应用于200mm/300mm集成电路先进封装领域，包括Flip Chip、Fan-In WLP、Fan-Out WLP和2.5D/3D等先进封装形式，可满足Bumping、RDL和TSV等制程的晶圆级光刻工艺需求。 众所周知，目前国内在芯片制造领域仍处于落后地位，虽然中芯国际等少数晶圆代工厂已经能够量产28/14nm工艺，但是其制造产线上的半导体设备仍严重依赖于美国。 光刻机属于半导体产业链其中的一环，以目前28纳米的国产光刻机是不能完成5G、AI技术实现全面应用的。 半导体基础技术是我国的薄弱环节，技术需要积累、产业链需要完善，目前所有的技术沉淀就是为以后的更大突破做准备。
- 简单来说，前道光刻的主要作用就是将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上。
- 电子束直写光刻机可以用于高分辨率掩模版以及集成电路原型验证芯片等的制 造，激光直写光刻机一般是用于小批量特定芯片的制造。
- 根据亚化咨询数据显示，2020年所公开的招中标信息中，上海微电子已共计中标2台半导体用光刻机，将分别供应给上海积塔半导体和中芯绍兴。
- 众所周知，目前国内在芯片制造领域仍处于落后地位，虽然中芯国际等少数晶圆代工厂已经能够量产28/14nm工艺，但是其制造产线上的半导体设备仍严重依赖于美国。
- 总的来说，就已有的信息来看，国产“28nm光刻机”几大关键的部件的似乎并未完全搞定，也没有全部通过02专项的验收，所以作为主要负责“28nm光刻机”系统总成的上海微电子自然也难以在今年年底实现“28nm光刻机”项目验收和交付。
03 国内光刻机发展现状 清华曾表示：目前我国用于 14nm 及以下工艺制程的光刻机仍依赖于进口。 如果说芯片是现代工业文明的结晶，那么光刻机就是站在现代工业文明结晶上的皇冠。 上海微电子有关工程师也带来了喜讯，称我国用于28nm 和14nm 芯片生产的光刻机都已成功获得突破，虽“成品率还有提升空间”，但这也意味着量产在稳步推进中。 通过多次施压，荷兰政府不再续签 ASML 对中国出口光刻机的许可证。 关键词：ASML EUV 光刻机据路透社消息，美国搞起了小动作，阻止荷兰向中国出售芯片制造技术。
上海微電子28nm光刻機: 中国在芯片和芯片设备国产化方面都取得了进展，美国和ASML傻眼了
即使ASML已经明确态度表示可以向中国企业供货光刻机，但光刻机却迟迟未到货，这可能与美国总统拜登于11月9日延长的一项禁令有关。 直到一个名不见经传的小公司ASML横空出世，与研究出以水作为介质的193纳米浸润式光刻技术的台积电鬼才林本坚合作，共同研发出第一台浸润式微影机，宣告了过往干式光刻机时代的过去，光刻机领域迎来了下一个时代——EUV时代。 SMEE高度重视员工的职业发展,设置了专业技术系列、系统工程系列、业务管理系列等三类职业发展通道，员工可结合自己的职业规划选取合适的职业发展通道，实现自身职业成长与公司持续发展的双赢。 光刻机按照用途可以分为IC 前道光刻机、封装光刻机、面板光刻机以及 LED/MEMS/功率器件光刻机。 世界杯接连爆冷VAR技术引关注，电子竞技领域也将拥抱AI随着2022卡塔尔世界杯的连续爆冷，观众对其VAR（视频助理裁判）的热议甚嚣尘上。
”另外预计在2023年，SMEE 20nm光刻技术将首先部署用于制造5G设备芯片。 虽然，国产光刻机厂商——上海微电子装备股份有限公司（以下简称“上海微电子”，SMEE）此前已经量产了自主研发的光刻机，但是其在技术上与国外还存在较大差距。 去年5月，华为在被美国升级制裁之后，台积电、中芯国际等晶圆代工厂无法继续利用美国半导体设备及技术为华为海思代工芯片，使得华为自研的海思芯片出现了断供。 与此同时，中芯国际在去年年底也被美国列入了实体清单，所需的半导体设备进口受阻，这也严重阻碍了其先进制程工艺的发展。
上海微電子28nm光刻機: 国产“28nm光刻机”又跳票？到底卡在了哪里？
此外，为提高子系统和零部件自主化程度，反制美方“卡脖子”，整个系统还需要更多时间来完善。 浸液系统技术长期以来一直被荷兰和日本垄断，光刻机主要以荷兰ASML，日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。 该项目研发成功后将推动国产光刻机一举超越Nikon和Canon的光刻机，成为全球光刻机生产企业第二名。 本月初，华为旗下的哈勃投资入股了国内高端准分子激光技术厂商科益虹源，似乎也正是为了加码布局光刻机领域的研发。 不过WP7贴吧用户@jinshandage 上海微電子28nm光刻機 表示，之前有内部前员工爆料，由于内部管理问题，上微老的骨干基本走光。
上海微電子28nm光刻機: 上海微电子28nm光刻机明年交付，国产集成电路走了一小步
目前最先进的 EUV 设备在2018 年单台平均售价高达 1.04 亿欧元。 2.长春国科精密：2018年通过了面向90nm节点的NA 0.75级投影光刻曝光光学系统验收，目前正向28纳米节点的光学系统攻关，当时预计2021年可以取得突破，现在也没有什么最新消息。 此外，哈尔滨工业大学已经研制出12瓦DPP-EUV光源，长春光机基于哈工大的光源继续研究EUV曝光机，但距离EUV的250瓦光源仍有很长的路要走。 目前上海微電子封裝光刻機已實現批量供貨，成為長電科技、日月光、通富微電等封測龍頭的重要供應商，並出口海外市場，在中國市場佔有率高達 80%，全球市場佔有率達 40%。 同時公司 300 系列光刻機可以滿足 HB-LED、MEMS 和 Power Devices 等領域單雙面光刻製程需求，佔有率達到 20%左右。 据悉，上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商，从低端切入各个细分市场，现已成为封测龙头企业的重要供应商，国内市场占有率高达80%，全球市场占有率也有40%，同时旗下LED/MEMS/功率器件光刻机性能指标领先，LED光刻机市占率第一。
上海微電子28nm光刻機: 上海微電子的28nm光刻機，背後離不開這些國產產業鏈
半導體基礎技術是我國的薄弱環節，技術需要積累、產業鏈需要完善，目前所有的技術沉澱就是為以後的更大突破做準備。 憑空捏造不出技術，我國的半導體產業要提高自供率，離不開國內相關基礎產業的支撐。 而上海微電子率先推出封裝光刻機，也是為瞭順應市場的需求，此前就算是封裝測試的光刻機，我們都要從海外高價購入二手設備，這也導致瞭產能以及相關性能上有所落後，國產的光刻機在正式面世之後，可以很好的幫助到自主化供應鏈解決封裝測試的問題。 目前對於國產光刻機的研發，我們已經加快瞭腳步，目前已經取得瞭眾多的技術突破，目前由華卓精研發的光刻機雙工件臺技術，已經被上海微電子運用於國產光刻機的研發當中瞭，上海微電子在整機集成技術上，也已經取得瞭非常不錯的成績。
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上海微電子28nm光刻機: 光刻机产品
不過，在對光刻精度要求較低的封裝光刻機、 LED/MEMS/功率器件光刻機、面板光刻機市場，上海微電子則取得了不錯的成績。 SSB500 系列步進投影光刻機不僅適用於晶圓級封裝的重新布線（RDL）以及 Flip Chip 製程中常用的金凸塊、焊料凸塊、銅柱等先進封裝光刻製程，還可以通過選配背面對準模組，滿足 MEMS 上海微電子28nm光刻機 和 2.5D/3D 封裝的 TSV 光刻製程需求。 目前該市場中競爭者數目多於 IC 前道光刻機市場，光刻機三大巨頭之一的Nikon 的光刻機業務也開始向利基市場進行轉移。
上海微電子28nm光刻機: 中國不買晶元了，美國晶元頻頻暴露，真的搬起石頭砸自己的腳了
在經歷了中興事件之後，深深讓國人感受到了中國在半導體晶片領域的薄弱，而此次美國升級對華為的制裁，更是讓國人認識到了中國在晶片製造設備領域的薄弱。 大联大品佳集团推出基于Infineon iMotion产品的冰箱压缩机方案大联大控股宣布，其旗下品佳推出基于英飞凌（Infineon）IMC101T的冰箱压缩机方案。 数据中心SSD的未来需求数据中心基础设施支出的增加包括对服务器和存储需求的增加，存储需求其中一大部分是企业级固态硬盘的需求。 500系列面向IC後道先進封裝，300系列面向LED、MEMS、功率器件製造，200系列面向TFT曝光。 Peter Wennink去年4月就曾公開表達焦慮，指出口管制將加快中國自主研發，「15年時間裏他們將做出所有的東西」，又指中國完全自主掌控供應鏈之後，歐洲供應商將徹底失去市場。 目前，台積電等生產7nm-5nm製程的晶片採用的都是0.33 NA EUV光刻機，阿斯麥正在研發的0.55 上海微電子28nm光刻機 NA光刻機每台售價約為3億美元（約合23億港元），比0.33 NA光刻機售價高出一倍。